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金相設(shè)備

精密切割機(jī) 金相拋光機(jī) 雙工位鑲嵌機(jī) 金相切割機(jī) 金相鑲嵌機(jī) 金相磨拋機(jī)

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KMP-1000全自動(dòng)磨拋機(jī)KMP-1000

更新時(shí)間：2026-02-27

型號(hào)：KMP-1000

瀏覽量：46

集預(yù)磨、研磨、拋光于一體的單盤式全自動(dòng)磨拋機(jī)。它采用單片機(jī)技術(shù)通過觸摸屏進(jìn)行控制，磨拋盤采用直流無刷電機(jī)驅(qū)動(dòng)，V帶進(jìn)行傳動(dòng)，磨頭采用步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，同步帶進(jìn)行傳動(dòng) 具有轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)，噪音低，壽命長(zhǎng)，安全可靠等特點(diǎn)；
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KUT-200Y自動(dòng)金相切割機(jī)

更新時(shí)間：2026-02-27

型號(hào)：KUT-200Y

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KUT-200Y高速自動(dòng)精密切割機(jī)是一款觸摸屏控制、桌面型手自一體精密切割機(jī)。擁有優(yōu)秀的可視性和切割能力，寬敞的工作空間，高扭矩直流電機(jī)及無級(jí)變速控制系統(tǒng)，動(dòng)力強(qiáng)，效率高，操作簡(jiǎn)單。高度自動(dòng)化，人性化，較大程度減少人力投入，智能切割。適用于切割金屬材料、緊固件、線路板、半導(dǎo)體、晶體、陶瓷和巖石等樣品。是各企業(yè)科研院所及從事進(jìn)行金相學(xué)術(shù)研究的優(yōu)選設(shè)備。
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KYL-2000冷鑲嵌壓力鍋

更新時(shí)間：2025-12-04

型號(hào)：

瀏覽量：293

KYL-2000冷鑲嵌壓力鍋適用于金相冷鑲嵌樣品的制備,對(duì)金相冷鑲埋樹脂，例如環(huán)氧體系或壓克力體系冷鑲嵌材料均適用。將澆濤好的樣品放入鑲嵌器中加壓固化后能制得無氣泡和孔隙的樣品,而樹脂的物理及化學(xué)性能不會(huì)改變。
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KHC-4000多聯(lián)全自動(dòng)液壓鑲嵌機(jī)

更新時(shí)間：2025-12-04

型號(hào)：KHC-4000

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多聯(lián)全自動(dòng)液壓鑲嵌機(jī)特點(diǎn)： 1、本機(jī)采用多聯(lián)鑲嵌模式，主機(jī)標(biāo)配1個(gè)鑲嵌單元外，可擴(kuò)展連接1-3臺(tái)附加的鑲嵌單元，快速鑲嵌，能耗低。 2、電動(dòng)液壓系統(tǒng)準(zhǔn)確控制壓力，調(diào)整范圍：0～10Mpa，確保脆性試樣不易被壓碎。 3、滑蓋式閉合系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)單手操作，同時(shí)有效的防止了取出試樣時(shí)上蓋彈出造成人員傷害的隱患。
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KYL-1000 金相冷鑲嵌壓力鍋

更新時(shí)間：2025-12-04

型號(hào)：

瀏覽量：392

KYL-1000 金相冷鑲嵌壓力鍋，觸摸屏顯示控制，界面清晰直觀，操作簡(jiǎn)便。內(nèi)部集成多重防爆系統(tǒng)安全可靠。整個(gè)過程全自動(dòng)閉環(huán)控制，僅需一鍵自動(dòng)完成所有鑲嵌工序?？啥〞r(shí)，定壓，壓力實(shí)時(shí)采集時(shí)刻了解內(nèi)部情況。
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KGH-2000 光固化鑲嵌機(jī)

更新時(shí)間：2025-12-04

型號(hào)：

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KGH-2000 光固化鑲嵌機(jī)一款利用紫外光光源照射，使樹脂快速固化的制樣冷鑲嵌機(jī)。把樹脂倒入特定的冷鑲嵌模具中后，放入工件后，點(diǎn)擊開始即可自動(dòng)快速固化，得到透明的鑲嵌試樣。
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KUT-250PB精密平板切割機(jī)

更新時(shí)間：2025-12-04

型號(hào)：KUT-250PB

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KUT-250PB精密平板切割機(jī)采用觸摸屏與PLC控制，性能穩(wěn)定，能實(shí)時(shí)顯示切割參數(shù)；Y軸自動(dòng)進(jìn)給切割，定位精度高，調(diào)速范圍大，切割能力強(qiáng)。
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KVM-3000真空鑲嵌機(jī)

更新時(shí)間：2025-12-04

型號(hào)：

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KVM-3000真空鑲嵌機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：真空室采用透明耐負(fù)壓材料，方便觀察。 ?負(fù)壓采用數(shù)顯壓力表，可設(shè)定負(fù)壓值。 ?壓力達(dá)到設(shè)定值后自動(dòng)停止真空泵運(yùn)行。 ?托盤可旋轉(zhuǎn)方便多工位自動(dòng)加樹脂。 ?托盤噴涂防粘涂料，清理方便。 ?采用無油真空泵，免維護(hù)。 ?適用于大量或者大型試樣的空間。
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